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制造半导体器件需要纯度较高的电子级四氟化锗，其纯度一般需达到5N级别以上。

四氟化锗是一种分子式为GeF4的无机化合物，外观呈无色气体状，有辛辣大蒜气味，能溶于水，能腐蚀汞和润滑脂，在半导体、光学、化学、材料科学等领域应用广泛。

四氟化锗生产方法多样，主要有卤素交换法，是指以氟化锑与四氯化锗为原材料，经过化学反应生成四氟化锗的方法；热分解法，是指以六氟化锗酸盐为原材料，在石英管中加热到约700℃经分解得到四氟化锗的方法；直接氟化法，是指以金属锗与氟气为原材料，直接氟化生成四氟化锗的方法。其中最常用的四氟化锗生产方法为卤素交换法。

四氟化锗是一类重要的无机化合物，在半导体领域，其主要用于掺杂和离子注入环节，四氟化锗可以与乙硅烷气体结合，直接在玻璃基底上制造硅锗微晶，进而用于制造低噪声低温放大器、整流器、振荡器等半导体器件；在光学领域，四氟化锗可作为添加剂用于光学玻璃制造场景，发挥着改善光学玻璃折射率与色散性能作用，还可作为原材料用于光学纤维、光学薄膜制造场景。

根据新思界产业研究中心发布的《2023-2027年中国四氟化锗（GeF4）市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，其中半导体是四氟化锗主要应用领域，当前在全球半导体产业蓬勃发展背景下，四氟化锗市场需求正持续增加。制造半导体器件需要纯度较高的电子级四氟化锗，其纯度一般需达到5N级别以上。电子级四氟化锗技术壁垒较高，目前全球产能主要集中在欧洲、美国、日本等发达国家企业手中，包括德国Linde集团、美国Entegris、美国Gelest、比利时Umicore、日本中央硝子等。

我国电子级四氟化锗生产能力较低，四氟化锗生产企业主要有广西航宇科技、中船（邯郸）派瑞特种气体、云南临沧鑫圆锗业、安徽盛权光电子材料、合肥和悦工业气体、远潜江电子特气、安徽创联新能源等。其中云南锗业正在积极研发电子级四氯化锗，目前该项目已进入中试阶段，未来有望加速实现规模化量产。

新思界产业分析人员表示，四氟化锗是一类重要的无机化合物，在半导体、光学、化工领域有着广阔的应用前景。从国内市场来看，当前在全球半导体产业向中国转移趋势持续加深背景下，我国四氟化锗市场需求正不断增加，但用于该领域的电子级四氟化锗尚未实现技术突破，仍依赖于进口，因此未来本土相关企业还需持续加大电子级四氟化锗研发力度。

原文标题 : 【洞察】四氟化锗（GeF4）应用前景广阔 本土企业还需加大电子级四氟化锗研发力度